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    產(chǎn)品詳情

    巖征儀器 高溫反應(yīng)釜

    簡(jiǎn)要描述:巖征儀器 高溫反應(yīng)釜,高真空反應(yīng)釜是一種能在極低氣壓環(huán)境(通常指絕對(duì)壓力低于 1×10?³ Pa,甚至可達(dá) 1×10?? Pa) 下進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)、材料制備或提純的專(zhuān)用設(shè)備,廣泛應(yīng)用于化學(xué)合成、材料科學(xué)、制藥、電子等領(lǐng)域。其核心特點(diǎn)是通過(guò)排除反應(yīng)體系中的氣體(如空氣、水分、揮發(fā)性雜質(zhì)),創(chuàng)造潔凈、無(wú)干擾的反應(yīng)環(huán)境,尤其適用于對(duì)氣體敏感、需避免氧化 / 污染或涉及揮發(fā)性物質(zhì)的過(guò)程。

    • 產(chǎn)品型號(hào):
    • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    • 更新時(shí)間:2025-08-21
    • 瀏覽次數(shù):106
    詳情介紹

    巖征儀器 高溫反應(yīng)釜,高真空反應(yīng)釜是一種能在極低氣壓環(huán)境(通常指絕對(duì)壓力低于 1×10?3 Pa,甚至可達(dá) 1×10?? Pa) 下進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)、材料制備或提純的專(zhuān)用設(shè)備,廣泛應(yīng)用于化學(xué)合成、材料科學(xué)、制藥、電子等領(lǐng)域。其核心特點(diǎn)是通過(guò)排除反應(yīng)體系中的氣體(如空氣、水分、揮發(fā)性雜質(zhì)),創(chuàng)造潔凈、無(wú)干擾的反應(yīng)環(huán)境,尤其適用于對(duì)氣體敏感、需避免氧化 / 污染或涉及揮發(fā)性物質(zhì)的過(guò)程。

    一、核心功能與適用場(chǎng)景

    高真空環(huán)境的核心作用是消除氣體分子對(duì)反應(yīng)的干擾,具體應(yīng)用包括:

    避免氧化 / 水解:如金屬有機(jī)化合物合成、納米材料(如金屬粉末)制備,需隔絕氧氣和水汽,防止產(chǎn)物變質(zhì)。

    脫除揮發(fā)性物質(zhì):如聚合物的真空除氣(去除殘留單體)、油脂的真空蒸餾(降低沸點(diǎn),避免高溫分解)。

    模擬環(huán)境:如空間材料老化測(cè)試、真空鍍膜前的基底預(yù)處理(去除表面吸附氣體)。

    負(fù)壓下的反應(yīng)調(diào)控:部分反應(yīng)(如環(huán)化反應(yīng)、分子內(nèi)環(huán)合)在真空下可促進(jìn)低沸點(diǎn)產(chǎn)物脫離體系,推動(dòng)平衡正向進(jìn)行。

    二、基本結(jié)構(gòu)與核心組件

    高真空反應(yīng)釜的設(shè)計(jì)需同時(shí)滿(mǎn)足 “高真空密封" 和 “反應(yīng)條件控制" 的雙重要求,核心組件包括:

    1. 釜體與密封系統(tǒng)(核心)

    釜體材質(zhì):

    實(shí)驗(yàn)室級(jí):多為 316 不銹鋼(高強(qiáng)度、耐腐蝕),或石英玻璃(需光學(xué)觀察時(shí),如光催化反應(yīng))。

    特殊場(chǎng)景:鈦合金(輕量化、抗高溫氧化)、因科鎳合金(耐強(qiáng)酸腐蝕)。

    容積:實(shí)驗(yàn)室常用 0.1-5L,工業(yè)級(jí)可達(dá) 10-100L,需根據(jù)反應(yīng)規(guī)模設(shè)計(jì)。

    密封結(jié)構(gòu):

    真空密封方式:關(guān)鍵在于法蘭連接部位,常用金屬波紋管密封(耐高低溫、反復(fù)使用)或氟橡膠 / O 型圈密封(成本低,但耐溫≤200℃,易老化)。

    動(dòng)密封:若涉及攪拌或旋轉(zhuǎn)部件(如攪拌軸),需采用磁流體密封(零泄漏,適用于超高真空)或波紋管機(jī)械密封(兼顧真空與耐壓)。

    2. 真空獲取與測(cè)量系統(tǒng)

    真空機(jī)組(核心):需多級(jí)泵組合以達(dá)到高真空,常見(jiàn)配置:

    前級(jí)泵:旋片式真空泵(粗真空,可達(dá) 1×10?2 Pa)或干泵(無(wú)油污染,適用于潔凈場(chǎng)景)。

    高真空泵:擴(kuò)散泵(可達(dá) 1×10?? Pa,需加熱油擴(kuò)散,可能引入微量油污染)、分子泵(無(wú)油,可達(dá) 1×10?? Pa,適用于超高真空且潔凈要求高的場(chǎng)景,如半導(dǎo)體行業(yè))。

    真空測(cè)量:

    粗真空階段(1×10? - 1×10?1 Pa):用熱偶真空計(jì)。

    高真空階段(<1×10?1 Pa):用電離真空計(jì)(精度可達(dá) ±10%)。

    需避免真空計(jì)探頭直接接觸反應(yīng)產(chǎn)物(如揮發(fā)性液體),可加裝冷阱或過(guò)濾器。

    3. 溫度控制系統(tǒng)

    加熱方式:

    電加熱套(適用于小容積釜體,控溫范圍室溫 - 300℃)。

    夾套加熱(導(dǎo)熱油或蒸汽循環(huán),適用于大容積,控溫更均勻)。

    紅外加熱(非接觸式,適用于玻璃釜體)。

    控溫精度:±1℃(部分高精度型號(hào)可達(dá) ±0.1℃),需配合鉑電阻(PT100)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。

    冷卻需求:若反應(yīng)放熱或需降溫,可通過(guò)夾套通冷卻水或液氮(低溫反應(yīng),如 - 80℃)實(shí)現(xiàn)。

    4. 攪拌與加料系統(tǒng)

    攪拌裝置:

    磁力攪拌(無(wú)軸封,真空密封性最佳,適用于低粘度體系,攪拌速率 50-1000rpm)。

    機(jī)械攪拌(需配合動(dòng)密封,適用于高粘度體系,槳葉可選錨式、槳式)。

    加料方式:

    真空下加料需通過(guò)真空進(jìn)料閥(如球閥配合密封圈),固體可通過(guò)料斗加樣,液體可通過(guò)注射器或計(jì)量泵(需與真空系統(tǒng)兼容)。

    部分釜體設(shè)計(jì)有側(cè)口,可在真空狀態(tài)下臨時(shí)補(bǔ)加物料(需快速操作以減少真空損失)。

    5. 安全與輔助系統(tǒng)

    真空閥門(mén):手動(dòng)或電動(dòng)閘板閥(控制真空通斷)、放氣閥(實(shí)驗(yàn)結(jié)束后緩慢通入惰性氣體破真空)。

    安全保護(hù):超溫報(bào)警(防止加熱失控)、真空度下限報(bào)警(避免突然漏氣影響反應(yīng))、防爆膜(針對(duì)可能產(chǎn)生氣體的反應(yīng),防止超壓)。

    觀察窗:石英玻璃視窗(耐高溫、透光,可觀察反應(yīng)狀態(tài)或配合光源進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng))。

    三、巖征儀器 高溫反應(yīng)釜工作流程(以實(shí)驗(yàn)室為例)

    裝料與密封:將反應(yīng)物加入釜體,確保釜蓋密封面清潔,擰緊法蘭螺栓(均勻用力,避免偏斜導(dǎo)致漏氣)。

    預(yù)抽真空:先開(kāi)啟前級(jí)泵,關(guān)閉高真空泵閥門(mén),抽至粗真空(如 1×10?1 Pa),排除釜內(nèi)大部分空氣。

    啟動(dòng)高真空系統(tǒng):打開(kāi)高真空泵(如分子泵),抽至目標(biāo)真空度(如 1×10?? Pa),期間通過(guò)真空計(jì)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。

    升溫與攪拌:按反應(yīng)需求設(shè)定溫度,啟動(dòng)攪拌,確保體系均勻。若需通入氣體(如惰性氣體保護(hù)),可通過(guò)進(jìn)氣閥緩慢充入,維持微正壓或特定真空度。

    反應(yīng)監(jiān)測(cè):通過(guò)觀察窗或在線傳感器(如取樣口、光譜探頭)跟蹤反應(yīng)進(jìn)程。

    結(jié)束操作:先停止加熱,待溫度降至安全范圍后,關(guān)閉高真空泵,通過(guò)放氣閥緩慢通入氮?dú)馄普婵眨詈蟠蜷_(kāi)釜體取出產(chǎn)物。


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